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中企报盟信息科学研究院主办
近年，具有世界领先水平、完全具有自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)光刻机在合肥研制成功，这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。据开发该产品的芯硕半导体(中国)有限公司介绍，该无掩膜式(直写式)光刻机分辨率为0.65微米，可应用于半导体行业、生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域。
去年被在线旅游行业认为是“移动革命”元年，据携程网公布的《2014年中国旅游者意愿调查报告》显示，2014年...
3月20日，中国民营自主品牌吉利汽车在北京钓鱼台国宾馆正式交付了首批20辆博瑞轿车作为外事礼宾制定用车及...
